荷兰芯片设备制造商ASML计划在2026年将用于极紫外(EUV)光刻机的产量提高约36%，该增长由来自AI数据中心扩建需求的上升所驱动；根据公司最新指引。
ASML的目标是在2026年至少制造60套标准EUV系统，并在2027年制造80套；相比之下，其历史年产量为40到50套。该公司在4月15日将其2026年销售预期上调至400亿欧元(US$46.9 billion)，此前为360亿欧元(US$42.2 billion)。ASML还计划在2026年对设施和基础设施投入22亿美元，比上一年增长20%；据ASML首席执行官Christophe Fouquet称，公司希望避免在设备短缺的情况下成为客户的瓶颈。
高-NA EUV系统推动收入增长
ASML的收入扩张不仅来自标准EUV机器出货量更高。公司正在商业化高-NA EUV系统，这是一种先进的EUV技术，可为AI应用制造更小、更强大的芯片。每台高-NA设备的成本超过3.5亿欧元(US$410 million)。
这一更高毛利的产品线正在获得更广泛的商业采用。英特尔已完成其用于量产的首批高-NA系统验收测试，而三星已开始接收用于其即将开展的2纳米芯片制造业务的高-NA系统。除逻辑芯片制造商外，存储芯片制造商SK Hynix和美光也在为高带宽存储(HBM)扩展EUV产能；这是一种用于AI服务器的存储类型。
ASML的产能决定全球AI基础设施的推进节奏
尽管ASML表示其意图是避免成为瓶颈，但其EUV产出仍是制约全球AI计算能力扩展速度的因素。该立场使ASML在基础设施时间表上拥有显著影响力。创纪录的净订单反映了主要科技公司——微软、Meta、Alphabet和亚马逊——的AI数据中心扩建计划，即通过向芯片制造商下单实现。ASML的订单簿和积压订单能够洞察可能跨越数年的AI基础设施支出趋势。
ASML的产能限制所带来的影响会向上游延伸，影响数据中心项目、电力采购协议以及电力发电规划；而这些都取决于需要使用EUV工具的先进芯片。
预计中国敞口将下降
ASML预计2026年对中国的敞口将降低。公司预计中国将在2026年占其销售额约20%，从2025年的33%下降；不受任何额外的美国限制影响。
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